Arbeitsbereiche

Materialstrukturierung & Abscheidung

Die Themen dieses Arbeitsbereichs reichen zum einen von der konformen Abscheidung ultra-dünner Schichten (ALD) bis hin zu klassischen chemischen und physikalischen Depositionsverfahren von metallischen und dielektrischen Schichten. Zum andern lassen sich Nano-Strukturen mit der vorhandenen Imprint-Technik übertragen oder aber mikromechanische Strukturen in dicken Polymer-Schichten erzeugen, die sich dann auch zur Lösung von Problemen der Aufbau- und Verbindungstechnik eignen. Nass-chemische wie plasmaunterstützte Ätzverfahren sind ebenso vorhanden.

Nano-Imprint-Lithographie

AG Nanotechnologie und Funktionale Oberflächen
(Fakultät Physikalische Technik und Informatik)
- Nano Imprint
- Interferenz-Lithographie

Atomic-Layer-Deposition

Forschungsgruppe Atomic Layer Deposition (ALD)
(Fakultät Physikalische Technik und Informatik)
- Thermische oder plasmaunterstützte Abscheidung von Stoffsystemen in Nanoschichten
  - Aluminiumoxid / Aluminiumnitrid
  - Titanoxid / Titannitrid
  - Wolfram / Wolframoxid
- Umfassende Ausrüstung zur Schichtcharakterisierung
  - Ellipsometer (SENTECH - SE800)
  - Systeme zur Oberflächenanalytik (SPECS - UHV-STM, XPS, UPS)
  - Rasterelektronenmikroskop (REM) mit quantitativer EDX-Analyse (TESCAN - MIRA FE)
  - Röntgendiffraktometer (BRUKER XRD) mit Flächendetektor / General Area Detector Diffraction System (GADDS)
  - Ritzhärteprüfer (WHZ)

RIE-Ätzung & Optische Lithographie

AG Mikrosystemtechnik (MEMS)
(Fakultät Elektrotechnik)
- Optische Lithografie bis 6“-Wafer
- Nass- und Trockenätztechniken
  - Isotrope und anisotrope Verfahren
  - Reaktives Ionen Ätzen (SENTECH RIE)
- Herstellung von hoch aufbauenden Strukturen aus SU-8 (MICRO RESIST TECHNOLOGY)

Ansprechpartner

Prof. Dr.-Ing. Robert Täschner
+49 375 536 1434
Robert.Taeschner[at]fh-zwickau.de

Prof. Dr.-Ing. Silke Mücklich
+49 375 536 1771
Silke.Muecklich[at]fh-zwickau.de

Prof. Dr. rer. nat. Silke Kolbig
+49 375 536 1382
Silke.Kolbig[at]fh-zwickau.de