Pressemitteilung

Neues Standardwerk der Mikrosystemtechnik mit WHZ-Beteiligung

Die langjährigen Projektarbeiten der interdisziplinären Arbeitsgruppen um die WHZ-Professoren Jürgen Grimm und Jürgen Vogel zum photosensitiven Polymermaterialsystem SU-8 fanden in einem neu erscheinenden Educational Book internationale Anerkennung.

v. l.: Bernd Löchel (MRT), Jürgen Grimm (WHZ) und Maik Schönfeld (WHZ) präsentieren das Gemeinschaftswerk auf dem 20years-MRT-MCC-Workshop in München| Quelle: privat

Das Werk wurde am 13. November 2017 im Rahmen eines Workshops in München zum ersten Mal dem interessierten Fachpublikum vorgestellt. Anlass des Workshops war die mittlerweile 20 Jahre währende Zusammenarbeit der micro resist technology GmbH, Berlin (MRT) und der MicroChem Corp., Westborough, Massachusetts, USA (MCC).

Federführend für das Editorial des 327 Seiten starken Fachbuchs „Resist Systems and Processing of High Aspect Ratio Micro- and Nanostructures“ waren Prof. Jürgen Grimm (Leiter der AG MEMS in der Fakultät Elektrotechnik der Westsächsischen Hochschule Zwickau), Dr. Bernd Löchel (MRT) und Dipl.-Chem. Gaby Grützner (Geschäftsführerin MRT).

Mithilfe der Zuarbeiten von Prof. Jürgen Vogel (Kraftfahrzeugtechnik – KFT), Hans-Jürgen Feige (KFT), Jens Saupe (ELT), und Maik Schönfeld (ehemals ELT, jetzt AMB) konnte Prof. Grimm innerhalb der letzten acht Monate einen großen Anteil des Buches konzipieren und umsetzen. Dabei fanden die Forschungsergebnisse zum Themenkreis der photostrukturierbaren Resiste in der Mikrosystemtechnik Berücksichtigung, welche durch die beiden Arbeitsgruppen um Prof. Grimm und Prof. Vogel in den letzten 10 Jahren erarbeitet wurden. Darunter die Prozessoptimierung mittels Infrarot-Trocknungssystem, die theoretische Beschreibung der Trocknung von unvernetzten Photoresisten, die mechanische Analyse vernetzter Polymerproben mittels Zugversuch und Dynamisch-Mechanischer Analyse sowie die Untersuchung der Eigenfrequenzcharakteristik mikrotechnischer Polymerstrukturen.

Weitere Zuarbeiten zum Buch kamen von national und international aktiven Arbeitsgruppen aus dem Fachbereich der Mikrosystemtechnik, u.a. Frau Prof. Hella-Christin Scheer vom Institut für Mikrostrukturtechnik der Bergischen Universität Wuppertal und Prof. Dr.-Ing. Uwe Schnakenberg vom Institut für Werkstoffe der Elektrotechnik an der RWTH Aachen.

Zwei Exemplare des Buchs, welches von der Druckwerkstatt und Verlag Klaus Lunow unter der ISBN 978 3 00 058 058 1 veröffentlicht wird, sind demnächst zur Ausleihe in der Hochschulbibliothek verfügbar.

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